CVD プロセスの解析事例

CVD（Chemical Vapor Deposition）プロセスの解析事例として、SiF4（四フッ化ケイ素）と NH3（アンモニア）のガスを吹き付けて、基板表面上に Si と N が沈着する過程を解析しました。

解析条件の概要

解析結果

解析モデル

蒸着面における Si 膜厚分布

Si 膜厚分布

蒸着速度分布

乾燥過程の解析事例

塗料に窒素ガスを吹き付けて乾燥させる過程を解析しました。

解析条件の概要

解析モデル

解析結果

適用例

• 半導体製造、金属膜形成およびそれらの装置開発（CVD, ALD プロセス解析）
• 塗布・乾燥過程（均一塗装, 膜厚コントロールなど）
• 壁面液滴生成過程（センサー等の機器表面上の結露防止, 形状最適化など）